用于制備一種氧穩定氟化釔薄膜 氟化釔薄膜具有較低的折射率(折射率約為1.4)，較寬的透過波段(0.35～12μm)，和其他氟化物(氟化鋇，氟化鈣等)相比具有較高的硬度，使得薄膜廣泛用于各種襯底上的增透膜的設計。

氟化釔是一種膠凝狀物質，熔點1387℃，沸點2230℃，相對密度4.01。不溶于水，難溶于稀酸。制法：將氧化釔與無水氟化氫于700℃反應8小時，或將氧化釔與比配比過量30%的氟氫化銨充分混合后，在300℃中反應12小時可得。它是弱毒性物質，毒性危險度屬IV級，對皮膚和眼沒有明顯的刺激作用。具有弱的蓄積能力。

氟化鑭，是一種白面心立方晶體，幾乎不溶于水，化學穩定性好。主要用于稀土、玻璃、氟化物等化學發光電極的制備，金屬鑭的電解生產和氟化鑭單晶的拉拔。

氟化釹在現代科學技術中有著重要的應用。氟化釹主要用于生產氟碳化合物和氟化鋁。含氟化釹試劑在有機合成中起著重要作用。由于硅對氟的高親和力和硅配位數的增加，在實際應用中常采用氟來去除硅醚的保護基團。例如氟化鈉、TBAF和氟化銫。氟化釹常被用作酶抑制劑，并常被用來抑制磷酸酶，如蘇氨酸磷酸酶。